تأثیر درصد مولی اکسید نیکل روی خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک ترکیب سه تائی teo2-v2o5-nio تهیه شده به روش تبخیر حرارتی در خلأ
thesis
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - دانشکده فیزیک
- author شبنم حسین زاده
- adviser حسن بیدادی فرامرز هادیان
- Number of pages: First 15 pages
- publication year 1390
abstract
شیشه های اکسیدی شامل اکسیدهای عناصر واسطه بطور وسیع بخاطر خواص نیمرسانایی آنها مورد بررسی قرار گرفته اند. شیشه های تهیه شده بر اساس اکسید تلور (teo2) دارای توانایی جالب تشکیل شیشه بوده و خواص رطوبتی از خود نشان نمی دهند، دارای ضریب انبساط حرارتی بالا، دمای گذار شیشه ای پایین بوده و نیز نقطه ی ذوب پایینی از خود نشان می دهند. رسانش الکتریکی در این شیشه ها با مدل جهش پولارون کوچک (sph) تفسیر می شود. تأثیر اکسید فلز واسطه ی دوم روی رسانندگی شیشه های شامل دو نوع یون فلزات واسطه، هدف مطالعات الکتریکی این شیشه ها قرار گرفته است. شیشه های نیمرسانا اغلب انحراف محسوس و مشخصی را از رفتار نیمرسانایی نشان می دهند. از جمله این رفتار انحرافی، انحراف از رسانش اهمی به رسانش غیراهمی تحت تأثیر دما و یا تحت تأثیر یک میدان الکتریکی قوی می باشد. تغییر در ترکیب شیشه ای می تواند روی خواص فیزیکی آن بخصوص روی جذب اپتیکی آن تأثیرگذار باشد. بررسی جذب اپتیکی بویژه شکل و انتقال لبه ی جذب، روش بسیار مفیدی برای فهم مکانیسم های حاکم بر گذارهای اپتیکی در مواد بلورین و غیربلورین بوده و اطلاعاتی را در مورد ساختار نوار انرژی آنها مهیا می-سازد. در این کار تجربی نمونه هایی از مواد شیشه ای 40teo_2-(60-x) v_2 o_5-xnio با درصدمولی30<x<0 با روش سرمایش سریع ماده ی مذاب تهیه شده اند. جهت بررسی خواص الکتریکی ترکیب فوق، لایه های نازکی با درصدمولی30، 10، 0 =x با روش تبخیر حرارتی از طریق چشمه ی حرارتی مقاومتی تهیه شده اند. همچنین برای بررسی خواص اپتیکی، لایه های نازکی از نمونه های شیشه ای با درصدمولی30، 20، 10، 5، 0 x= با روش تبخیر از طریق بمباران الکترونی تهیه گردید. بررسی ساختاری نمونه ها با استفاده از تفرق پرتو x نشان می دهد که این نمونه ها دارای ساختار بلوری نبوده و به صورت آمورف می باشند. رسانندگی الکتریکی dc لایه های نازک 40teo_2-60v_2 o_5 ، 40teo_2-50v_2 o_5-10nio و 40teo_2-30v_2 o_5-30nio در گستره ی دمایی k 423-300 اندازه گیری شده است. بررسی وابستگی دمایی رسانندگی این سه نمونه نشان داد که مدل جهش پولارون کوچک در محدوده ی دمایی مورد نظر قابل کاربرد است. با افزایش درصد مولی اکسیدنیکل مقادیر انرژی فعال سازی از مقدار 035/0 تا 042/0 الکترون ولت افزایش می یابد. رسانندگی dc در دمای k 393 برای این نمونه ها در گستره ی s/cm 11-10x5/7- s/cm9-10 ×26/5 بدست آمد که نشان دهنده ی این است که با افزایش درصد مولی اکسید نیکل، رسانندگی کاهش می یابد. چون اکسیدنیکل تشکیل دهنده ی شبکه ی شیشه ای نمی باشد، در نتیجه یونهای نیکل در شبکه ی شیشه ای ایزوله هستند و بعلت فقدان پیوندهای اکسیژن مانع از جهش الکترونها می شوند. در واقع یونهای نیکل مانع رسانش و انتقال حاملها در شیشه هستند، بنابراین با افزایش درصد مولی اکسیدنیکل، رسانندگی کاهش و انرژی فعال سازی افزایش می یابد. بررسی رفتار جریان بر حسب ولتاژ این سه نمونه نشان داد که در میدانهای پایین مشخصه ی i-v شکل خطی (رسانش اهمی) دارد، در حالیکه در میدانهای بالا (بالاتر از v/cm105) این نمونه ها رفتار غیر اهمی از خود نشان می دهند (رسانش غیراهمی). رفتار مشخصه ی i-v نمونه ها در سه دمای متفاوتk 423، 348، 300t= مورد مطالعه قرار گرفت. در دماهای بالا، بعلت افزایش رسانش با افزایش دما میدان آستانه ی رفتار غیر اهمی کاهش می یابد. به عبارت دیگر با افزایش دما منطقه ی غیراهمی به سمت میدانهای پایین تر منتقل می شود. بنابراین نتیجه گرفته شد که مکانیسم رسانش در این منطقه ی غیر اهمی با اثر میدان الکتریکی از طریق گرمایی تحریک می شود. طیف عبور وجذب اپتیکی لایه های نازک 40teo_2-60v_2 o_5، 40teo_2-55v_2 o_5-5nio، 40teo_2-50v_2 o_5 -10nio ، 40teo_2-40o_5-20nio و 40teo_2-30v_2 o_5-30nio در گستره ی طول موجی nm 1100-300 با اسپکتروسکوپی نوری بررسی گردید. لبه ی جذب اپتیکی لایه های نازک از روی طیف جذب مشخص و ضریب جذب، گاف انرژی اپتیکی, عرض دنباله ی حالتهای جایگزیده در گاف باندی و عرض نسبی حالتهای جایگزیده طبق تئوریهای موجود محاسبه گردید. همچنین رفتار ضریب شکست و ثابت خاموشی نمونه ها بر حسب طول موج بررسی و ضخامت نمونه ها برآورد گردید. نتایج حاصله نشان می دهد که موقعیت لبه ی جذب و در نتیجه مقادیر گاف انرژی اپتیکی به ترکیبات مختلف ماده ی مورد نظر بستگی دارد. با افزایش درصد مولی اکسید نیکل از مقدار صفر تا 30 گاف انرژی اپتیکی از مقدار 38/3 به 7/2 الکترون ولت کاهش می یابد. علت این کاهش معرفی اکسیدنیکل بعنوان یک اصلاح گر شبکه است که باعث افزایش اکسیژن غیر پیوندی می شود، در نتیجه برانگیختگی خیلی راحتتر انجام گرفته و جذب با انرژیهای کمتر صورت می گیرد. با افزایش درصد مولی اکسیدنیکل انرژی اورباخ و عرض نسبی حالتهای جایگزیده به ترتیب از مقدار 27/0 به 62/0 الکترون ولت و 07/0 به 22/0 افزایش می یابند، این افزایش احتمالاً به دلیل افزایش چگالی بی نظمی های محتمل در شبکه ی آمورف v_2 o_5 می باشد. رفتار ضریب شکست بر حسب طول موج نشان می دهد که با افزایش طول موج ضریب شکست کاهش می یابد. ثابت خاموشی نیز مقدار بیشینه ای در لبه ی جذب دارد.
similar resources
تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...
full textتاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایههای نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایههای نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ITO) با ترکیبهای مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایههای شیشهای نهشته شدند. لایهها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...
full textتهیه و مطالعه ساختاری لایه های نازک cd1-xznxs به روش تبخیر حرارتی در خلأ
در این پایان نامه لایه های نازک cd1-xznxs تهیه گردیده و خواص ساختاری آنها بوسیله آنالیزهای پراش اشعه ایکس و fesemمورد بررسی قرار گرفت. اندازه بلورک ها، نوع ساختار و پارامترهای ساختاری همچون ثابت شبکه و فاصله صفحات از روی طیف اشعه ایکس نمونه ها محاسبه گردیده و مورد مطالعه قرار گرفت. همچنین پارامترهای کیفی لایه همچون تنش و چگالی دررفتگی ها محاسبه شد. تصاویر fesem چگونگی ساختار دانه ها را نشان داد...
15 صفحه اولتهیه و مطالعه خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک نانوساختار اکسید نیکل (nio) باناخالصی li و ساخت دیود لایه نازک p-nio:li / n-sno2:f
در این تحقیق، لایه های نازک نیمرسانای شفاف اکسید نیکل به روش اسپری پایرولیزیز بر روی بسترهای شیشه ای تهیه شده است. نخست، اثر غلظت محلول اولیه نیترات نیکل و دمای بستر بر روی خواص ساختاری، الکتریکی، ترموالکتریکی، اپتیکی و فوتورسانایی لایه های نازک nio بررسی شد. نتایج این بررسی ها نشان داد که غلظت بهینه و دمای مناسب بستر برای تهیه لایه های نازک نانوساختار اکسید نیکل با رسانایی الکتریکی نوع-p و شفا...
15 صفحه اولبررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایههای نازک 4ZnSnS2Cu تهیه شده به روش سل- ژل چرخشی
In this study Cu2ZnSnS4 (CZTS) thin films were deposited by sol–gel spin coating on glass substrates and the effect of metal salts ratio, annealing treatment with and without sulfur vapor on structural, morphological and optical properties of CZTS films were investigated. Our results were showed that all CZTS thin films have kesterite structure. Moreover increasing of zinc concentration and d...
full textبررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامتهای اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...
full textMy Resources
document type: thesis
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - دانشکده فیزیک
Keywords
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023